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#工艺/技术

今日 1 条
今天10月2日周五
10月1日周四
  1. Compound Semiconductor42

    利用 ZnO 量子点开展量子计算研究

    日本东北大学联合日本物质材料研究机构及东京大学,在 ZnO 器件中演示了电荷传感、高频反射测量及少电子双量子点的形成。团队将传感量子点与 RF 谐振电路集成,加快电子电荷变化检测,为自旋量子比特研究提供测量平台。下一步将演示电子自旋读出与操控,并测量自旋弛豫和相干时间。

  2. Compound Semiconductor44

    可编程 GaN 芯片适应网络需求变化

    Tyndall National Institute 参与的国际团队开发出可编程 GaN 芯片,可持续适应网络需求变化,待机功耗几乎为零。该芯片将多层六方氮化硼(hBN)忆阻开关直接集成到 GaN MMIC,配置保持无需持续供电。研究已在多个关键 RF 组件中完成演示,成果发表于《Nature》,面向未来 6G 通信。

9月30日周三
  1. 第三代半导体产业网60

    三安光电联合清华大学、厦门大学完成堆叠全彩Micro LED技术原理验证

    三安光电联合清华大学、厦门大学历经两年攻关,完成4英寸晶圆堆叠式全彩Micro LED架构工艺的底层原理验证与技术可行性论证。团队依托MOCVD工艺、应力调控及新型隧道结结构,实现红、绿、蓝光半峰宽分别为42nm、27nm、17nm;材料称经检测,蓝光EQE达32%、绿光EQE达20%、红光EQE突破3%。成果处于前沿预研阶段,95%以上BT.2020广色域覆盖为后续技术迭代目标。

  2. 第三代半导体产业网39

    集创北方联合微芯科技重塑车载矩阵灯光架构

    集创北方与微芯科技联合推出基于10ba se-T1S技术的车载LED照明终端方案,实现终端节点无MCU化设计。方案结合ICND7301车规级LED驱动芯片与微芯科技端点芯片,通过RCP协议实现区域控制器对终端节点的直接控制。灯效逻辑集中部署于ZCU侧,OTA升级灯效无需改动终端节点配置。

  3. SEMI 中国·半导体64

    Resonac成功开发300mm碳化硅衬底

    Resonac(力森诺科)成功开发直径300mm(12寸)SiC衬底,相同制程下每片可取得的芯片数量为主流150mm(6寸)衬底的4倍。其商业化需要功率半导体制造商进行大规模设备投资,以及供应商建立稳定量产低缺陷衬底的生产体系。Resonac目前主要生产150mm衬底,现阶段将优先强化由150mm向200mm转移的生产能力,并按客户需求评估300mm产品的市场前景。

    推荐理由:大尺寸衬底的芯片数量优势与商业化所需的设备投资、低缺陷量产条件形成对照,有助于区分开发成果与量产降本之间的距离。

9月29日周二
  1. 第三代半导体产业网43

    鸿利显示:车载Mini LED行业洞察与技术趋势

    鸿利显示分享车载Mini LED技术趋势与量产经验,以POB与COB双技术路线覆盖主流至高端车载显示需求。其COB方案亮度均匀性可达92%以上,对比度高达100000:1。公司已具备车规级Mini LED背光模组批量交付能力,量产案例包括吉普12.3寸仪表屏、广汽15.6寸中控屏等。

  2. Compound Semiconductor49

    Navitas将为美国政府开发10kV SiC芯片

    Navitas Semiconductor获美国政府授予ALATTIS项目,将开发下一代10 kV SiC功率半导体技术。该原型项目由美国陆军研究实验室资助,将开发、实施并验证美国目前尚不具备的10 kV SiC IGBT制造工艺。Navitas将采用其专利沟槽辅助平面(TAP)架构,并集成先进PiN二极管技术。

  3. Compound Semiconductor69

    Wolfspeed推出Premium 200 mm n型SiC衬底,扩展200 mm材料产品组合

    Wolfspeed宣布Premium 200 mm n型SiC衬底正式商用,旨在通过减少缺陷和提高晶圆形状稳定性改善良率。经行业标准方法的X-ray形貌检测验证,该衬底微管密度低于0.01个/平方厘米,或每片晶圆少于3个微管,并具有较低的螺型穿透位错。公司称其可在客户现有外延工艺内改善外延表现,产品现已可订购并配有专用产能,后续将随市场需求增长在现有大规模SiC制造设施内快速爬坡新增产能。

9月28日周一
  1. Semiconductor Today67

    Wolfspeed 推出 Premium 200mm n型 SiC 衬底,现已可订购

    Wolfspeed 宣布 Premium 200mm n型 SiC 衬底商业供货,旨在通过减少缺陷和提高晶圆形状稳定性改善良率。经行业标准方法的 X-ray 拓扑成像验证,该衬底微管密度低于每平方厘米 0.01 个,即每片晶圆少于 3 个微管,并具有较低的螺型穿透位错水平。公司称,更高的裸晶圆质量可在客户现有外延工艺内改善外延表现;产品现已可订购,并配有专用产能。

  2. 第三代半导体产业网54

    阿基米德半导体金刚石集成碳化硅功率模块实现首批样品交付

    阿基米德半导体于2026年8月交付首批“Diamond Inside”碳化硅功率模块正式样品订单,客户为国内一家电动飞行器企业,产品将装机进入其动力系统。模块采用DCM封装,将金刚石复合材料作为底板嵌入封装结构,而非外部贴附热沉片。材料称,该方案可使散热由传统Pinfin水冷改为平板风冷,减少冷却附件及底板重量,并通过与SiC芯片更匹配的热膨胀系数降低热应力与界面疲劳风险。

  3. 第三代半导体产业网41

    元旭半导体Micro-LED光互联芯片实测-3dB带宽达3.5GHz

    元旭半导体联合清华大学、星火辰光研发的Micro-LED光互联芯片样品,在所采用的测试条件下实测-3dB带宽达到3.5GHz。下一阶段,元旭半导体将围绕器件一致性、阵列集成与封装互连继续研发,并联合合作伙伴推进驱动、接收及光学耦合适配,通过链路测试验证通信能力。

  4. 第三代半导体产业网50

    中科大孙海定团队AFM:面向高速日盲光通信的微尺度发光与探测二极管几何工程

    中国科学技术大学孙海定团队提出沟槽深宽比重构策略,在固定有源面积下提升AlGaN深紫外微二极管的发光、探测与通信性能。NT-diode在50 mA时光输出功率提升约16%,探测响应度提升约17.3%。其数据率达2.688 Gbps,源于接收信号质量改善而非本征调制带宽增加,并完成双向自由空间V2V概念验证。

  5. 全球半导体观察 · 材料/设备52

    英伟达评估玻璃基板方案,与SCHMID等企业合作,最快有望2028年前落地

    英伟达正在评估玻璃基板方案,并与德国设备商SCHMID等企业合作,相关方案最快有望于2028年前落地。英伟达希望韩国、日本基板厂商在两年内完成开发,用于下一代高性能AI加速芯片封装,提升集成度并承载更多高带宽内存。SCHMID披露正与英伟达、英特尔、AMD供应链内核心供应商共同开发玻璃基板制造设备,但TGV金属化仍有技术难点,相关产品客户认证尚未完成。

  6. Semiconductor Today48

    东芝推出3300V SiC MOSFET模块

    东芝推出IX800FXF2YMS4双SiC MOSFET模块,额定电压3300V、额定电流800A,面向铁路车辆及可再生能源发电等工业设备。该模块采用第三代SiC MOSFET芯片和iXPLV封装,通过银烧结键合技术提升耐热性与可靠性,额定沟道温度达175°C。

9月24日周四
  1. Compound Semiconductor44

    东芝推出3300V SiC MOSFET模组

    东芝推出面向工业设备的双SiC MOSFET模组IX800FXF2YMS4,额定漏源电压为3300V、额定漏极电流(DC)为800A。该模组采用东芝第三代SiC MOSFET芯片及iXPLV封装,通过银烧结键合技术提升芯片键合部位的耐热性与可靠性,额定沟道温度达175°C。

9月23日周三
9月18日周五
  1. Semiconductor Today53

    NewPhotonics与Tower开始大批量出货面向AI互连的激光器集成可维护光引擎PIC

    NewPhotonics与Tower Semiconductor宣布,面向AI横向扩展和纵向扩展互连的激光器集成可维护光引擎PIC已开始大批量出货。已出货的NPG102支持800G和1.6T,采用每通道200G设计,并依托PH18DA硅光平台异质集成InP器件,在单个PIC上集成激光器、半导体光放大器、调制器和光探测器。

  2. Semiconductor Today66

    安森美发布 Embedded Power Platform,以硅晶圆构建功率系统封装

    安森美发布 Embedded Power Platform(EPP),以硅晶圆本身作为封装基础,在晶圆级架构中集成硅、SiC 与 GaN 技术。平台利用其标准12英寸硅晶圆制造能力协同优化电气、热与机械设计,公司称可依应用实现3–5x功率密度,早期固态断路器设计较现有设计尺寸约缩小50%、温度约降低20%,电动车牵引逆变器应用功率密度最高提升至4x、功率损耗降低15%。

9月17日周四
9月16日周三
  1. 粉体圈64

    Resonac成功开发300mm(12英寸)碳化硅单晶衬底

    9月15日,Resonac(力森诺科)宣布成功制造出300mm(12英寸)碳化硅单晶并加工成衬底。公司目前主要供应150mm(6英寸)碳化硅外延晶圆,200mm(8英寸)外延晶圆也已对外出货。300mm(12英寸)碳化硅衬底尚未进入大规模产业化阶段,距离稳定量产、客户送样验证还有较长周期,后续竞争将聚焦晶体良率与加工稳定性。

9月15日周二
  1. Semiconductor Today41

    英国 Battalion 与宾夕法尼亚州立大学启动聚焦国家安全的研究合作

    英国 Battalion Advanced Technology 与宾夕法尼亚州立大学签署总额最高 $6m 的两项研究协议,开发先进半导体平台及高温材料。协议于7月16日生效,为期三年,研究涵盖半导体与高性能衬底集成,以及耐极端高温、抗氧化合金。半导体项目将探索原子级薄中间层能否改善 GaN 与金刚石、氮化铝等材料的集成。

9月11日周五
  1. Semiconductor Today47

    Besxar 搭乘 SpaceX 完成首次飞行

    Besxar 于 5 July 搭乘 SpaceX Falcon 9 完成 Flight-1“Mission Asimov”,两个 Clipper-class 容器完整回收。飞行后测试显示容器表现符合预期,晶圆样品初步分析未见损伤。第二个容器记录飞行数据时出现异常,公司正开展审查,计划在下次飞行前完成处理。

9月10日周四
  1. Semiconductor Today71

    DB HiTek完成8英寸1200V SiC MOSFET工艺可靠性验证

    韩国DB HiTek已完成8英寸(200mm)晶圆1200V SiC MOSFET工艺可靠性验证,计划为2027年量产加快准备。已通过验证的第二代工艺在18V导通栅极电压下,比导通电阻不高于2.5mΩ•cm²、阈值电压不低于3V;第三代工艺仍在验证,目标是在相同栅极电压下实现不高于2.3mΩ•cm²的比导通电阻及至少2.5μs的SCWT,相关PDK计划于11月推出。

9月9日周三
9月7日周一