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工艺与技术路线

新工艺、新材料与新产品的量产进展:工艺变了,测量要求跟着变。

最新精选

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9月30日周三
  1. SEMI 中国·半导体64

    Resonac成功开发300mm碳化硅衬底

    Resonac(力森诺科)成功开发直径300mm(12寸)SiC衬底,相同制程下每片可取得的芯片数量为主流150mm(6寸)衬底的4倍。其商业化需要功率半导体制造商进行大规模设备投资,以及供应商建立稳定量产低缺陷衬底的生产体系。Resonac目前主要生产150mm衬底,现阶段将优先强化由150mm向200mm转移的生产能力,并按客户需求评估300mm产品的市场前景。

    推荐理由:大尺寸衬底的芯片数量优势与商业化所需的设备投资、低缺陷量产条件形成对照,有助于区分开发成果与量产降本之间的距离。

9月22日周二
  1. 国轩高科 新闻60

    国轩高科在合肥发布星晨低空飞行电池、跨境物流方案及零碳数字云平台

    9月21日,国轩高科在合肥举行的2026世界制造业大会专场发布会上,发布星晨低空飞行电池、中欧非新能源物流运输一体化解决方案及GotionGuard-ZERO零碳数字能源云平台。

    推荐理由:低空电池同时披露能量密度、低电量放电倍率及补能指标,为比较飞行场景下比能与功率的兼顾程度提供具体参照。